CPCI系统电源
VPX系统电源
CPCI系统背板
VPX背板
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铁路机车专用3U电源
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铁路机车专用电源模块
CPCI系统主板
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医疗设备用开关电源
纳米图形发生器
电子束曝光系统
刻蚀系列
薄膜系列
DaLI高分辨无掩膜纳米光刻机
德国针光刻系统（SPL）
美国全息纳米光刻
纳米压印
管式炉
光学曝光机
原位纳米压痕仪
原位拉伸台
设备主要用于真空环境下的样品退火工艺，可实现多种退火工艺。
真空系统：分子泵系统
样片数量及尺寸：2盘，400mm*400mm
退火温度：室温-750 C
温度控制：多段分段控制，控温精度1%
表面温度不均匀性：＜ ±3'C (125C ,中心150mm* 150mm)
＜ ± 5 C (750 C , 400mm*400mm)
气体保护：氮气
操作模式：全自动方式+半自动方式
