21世纪是纳米科技时代,纳米加工是纳米科技的关键技术。纳米通用图形发生器是纳米加工的重要装备。它可以配备到扫描电子显微镜(SEM)、聚焦离子束系统(FIB),构建成纳米加工设备,进行纳米图形加工和纳米微结构制造。它适用于科研院所和高等院校的半导体、光电子、MEMS实验室。
DY-2000A纳米通用图形发生器技术参数
一、 软件技术参数
1. 基于Windows的操作系统的EBL应用软件,具有强大的图形编辑,读写及转换及图形导入功能。
2. ★具有图像分层设计功能,用户可根据需要将任意几何元素定义在不同的层,实现单层或多层组合曝光;
3. ★具有图像采集功能,并据此对样品图像的平移、旋转、增益(缩放)进行控制,可实现位移,旋转,增益矫正刻写场,提升曝光分辨率。
4. 具有标记检测和位置修正,用于拼接和套刻对准。
5. 具有曝光点、线、区域及任意图形的能力;
二、 硬件技术指标
1. ★扫描频率优于10 MHZ,传输数率不低于300MB/S。
2. 具有独立的X和Y方向电子束偏转控制,D/A转换不小于16位;
3. 12 位高性能,小温漂的ADC图形采集系统,信噪比高。
4. 采用高性能的微处理器,信号处理能力优于30M,支撑高效,高分辨的曝光。
5. ★选用独立于PC工作站之外的、D/A和A/D独立模块,配备屏蔽抗干扰机箱的控制系统。减少干扰,稳定性优于PCI板卡集成系统设备。
6. ★配有5.6寸LED显示屏,可实时、直观的显示曝光进程。
7. 配有27寸液晶显示器和PC图形控制系统。
8. ★具有末端控制信号实时跟踪显示功能,用于诊断图形输出信号。