全息纳米光刻设备
新开发的一款全息光刻设备，该设备可低成本的制作较大面积的1D/2D/3D 的纳米图案结构。
该设备无需使用掩膜版、及纳米压印模板，只需选择图形制作的类型，并设计图形结构(光栅、方形结构、圆柱结构、钻石结构等)，设置曝光程序，即可获得大面积的均匀纳米结构图形。
主要性能：
可完成250nm周期结构制作（125nm线宽）
可高效完成大面积1D/2D/3D 纳米级结构制作
一次完成纳米结构制作
无需掩膜版
无需压印模板
高均匀性低缺陷结构
适用光栅结构、晶格结构、PSS图形衬底
低成本、快速制作纳米结构
适用于平面及曲面结构 2英寸全面积纳米结构制作只需1分钟
主要应用：
纳米结构制作
大面积光栅结构
SERS 表面增强散射
光子晶体
LED
太阳能
PSS图形
纳米丝衬底等
