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DaLI高分辨无掩膜纳米光刻机

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DaLI高分辨无掩膜纳米光刻机

* 桌面化的小型设备

* 光学直写定位精度优于1nm

* 特征结构间隙可达100nm

* 可用于非平表面加工

* 自带温度控制保证高精确度

* 用户友好的全自动软件控制

* 系统性能稳定,零维护


主要特点:

最小特征结构可小达1μm

对I-line光刻胶进行优化(SU-8,AZ,……)

超快不超高精度定位,定位分辨率<1nm

适用于从CAD设计到各种结构的快捷构建

用户友好的单应用界面

 独有的光斑间距调节功能以获得超高平滑度的结构

具备自劢对焦机制不离焦直写模式

内建显微镜可用于样品定位

具备非平表面直写能力

可构建高深宽比结构(可达10:1)

     


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