* 桌面化的小型设备 * 光学直写定位精度优于1nm * 特征结构间隙可达100nm * 可用于非平表面加工 * 自带温度控制保证高精确度 * 用户友好的全自动软件控制 * 系统性能稳定,零维护 | |
主要特点:
最小特征结构可小达1μm
对I-line光刻胶进行优化(SU-8,AZ,……)
超快不超高精度定位,定位分辨率<1nm
适用于从CAD设计到各种结构的快捷构建
用户友好的单应用界面
独有的光斑间距调节功能以获得超高平滑度的结构
具备自劢对焦机制不离焦直写模式
内建显微镜可用于样品定位
具备非平表面直写能力
可构建高深宽比结构(可达10:1)